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Doppelbelichtung und Replikation von Mikrostrukturen für die optische Informationsverarbeitung
Wohlfeld, Denis
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Scheffelmeier, S.
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Brenner, Karl-Heinz
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URL:
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http://www.dgao-proceedings.de/download/107/107_p5...
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Dokumenttyp:
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Konferenzveröffentlichung
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Erscheinungsjahr:
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2006
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Titel einer Zeitschrift oder einer Reihe:
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DGaO-Proceedings : Wissenschaftliche Online-Zeitschrift der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik
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Band/Volume:
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107
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Ort der Veröffentlichung:
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Erlangen-Nürnberg
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Verlag:
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Dt. Ges. für Angewandte Optik
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ISSN:
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1614-8436
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Sprache der Veröffentlichung:
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Deutsch
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Einrichtung:
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Fakultät für Wirtschaftsinformatik und Wirtschaftsmathematik > Optoelektronik (Brenner 1999-2008)
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Fachgebiet:
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004 Informatik
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Abstract:
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Für eine kostengünstige Replikation von Mikrostrukturen muss die Entformbarkeit der Strukturen gewährleistet sein. Das Konzept der Doppelbelichtung für die UV-Tiefenlithographie ermöglicht die Herstellung von entformbaren, hochkompakten optisch-passiven Mirkrostrukturen.
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Zusätzliche Informationen:
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Online Ressource
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